产品特点
多光束激光加工,提升晶圆边缘质量和后续封装稳定性
覆盖切割与开槽的多光束加工能力
ALSI LASER1206支持 60 至 800 μm 晶圆开槽和 20 至 200 μm 晶圆切割,适用于先进封装、存储、功率和汽车电子领域的晶圆分割需求,并支持碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等第三代半导体材料。多光束激光加工用于控制局部热影响和加工边缘质量。
自动化晶圆处理与洁净加工环境
ALSI LASER1206 集成框架晶圆(film-frame wafer)和裸晶圆(bare wafer)处理能力,并采用全自动设备设计,可与现有制造线兼容。Class 1000 洁净微环境与模块化隔离设计有助于控制加工过程中的颗粒与污染风险。